发明名称 具有漏光及阴影补偿的均匀性校正系统
摘要 提供一种具有漏光及阴影补偿的均匀性校正系统与方法。该系统包含多校正组件以及一光学补偿板。相邻的校正组件由一间隙相隔开。该光学补偿板包含具有多个间隙补偿区段的一图案。该图案具有一衰减,其与该光学补偿板的其余部分的衰减不相同。在该补偿板上的每一补偿区段的位置对应照明槽缝中相邻校正组件之间的相对应间隙的位置。每一补偿区段的宽度依据入射至该校正系统上的光线的角度而定。该图案可以位于该补偿板的上表面或底表面上。再者,该补偿板可以位于多个校正组件的上方或下方。
申请公布号 CN100524036C 申请公布日期 2009.08.05
申请号 CN200510137796.6 申请日期 2005.12.28
申请人 ASML控股股份有限公司 发明人 罗贝托·B·温纳尔
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 王波波
主权项 1. 一种均匀性校正系统,包含:多个校正组件,其中每一校正组件通过一间隙与一相邻的校正组件相隔开;以及一光学补偿板,其平行于所述多个校正组件,其中该光学补偿板包含一具有衰减的图案,该图案具有多个间隙补偿区段,每一间隙补偿区段对应相邻校正组件之间的所述多个间隙其中之一,以及其中该光学补偿板上的每一间隙补偿区段的位置对应照明槽缝中相邻校正组件之间的相对应间隙的位置。
地址 荷兰费尔德霍芬