等离子体处理设备

摘要

本发明提供一种等离子体处理设备。该等离子体处理设备可以抑制由于附着在处理腔内的产物等所引起的电极阻抗的变化，并且防止用于等离子体而消耗的电功率的变化。根据本发明，等离子体处理设备包括：射频电源(5)，其相对于GND输出射频功率；切换装置(24)，其连接到所述射频电源；下电极(2)，其连接到所述切换装置(24)；阻抗控制装置(22)，其连接在所述下电极(2)和GND之间；阻抗测量装置(23)，其连接在所述切换装置(24)和GND之间；以及控制器(26)，其根据由所述阻抗测量装置(23)测量的阻抗(电极阻抗)的值，控制所述阻抗控制装置(22)。

主权项

1. 一种等离子体处理设备，包括：射频电源，其相对于参考电势来输出射频功率；切换装置，其连接到所述射频电源；电极，其连接到所述切换装置；阻抗控制装置，其连接在所述电极和所述参考电势之间；阻抗测量装置，其连接在所述切换装置和所述参考电势之间；以及控制器，其根据由所述阻抗测量装置所测量的阻抗的值，来控制所述阻抗控制装置，其中，在等离子体处理时，所述切换装置将所述电极连接到所述射频电源，并且当所述阻抗测量装置进行阻抗测量时，所述切换装置将所述电极连接到所述阻抗测量装置。