真空处理系统

摘要

真空处理系统（1）系具备有：对晶圆W在真空下进行CVD处理的CVD处理腔室（12至15）；具有将晶圆W进行搬入．搬出的搬入出口（31），透过可将搬入出口（31）开闭的闸阀（G）而连接有CVD处理腔室（12至15），具备将晶圆W藉由搬入出口（31）对CVD处理腔室（12至15）进行搬入出的搬送机构（16），且内部被保持在真空状态的搬送室（11）；及设在搬入出口（31）附近，在打开闸阀（G）而使搬送室（11）与任一CVD处理腔室相连通的状态下，经由搬入出口（31），对该CVD处理腔室排出冲洗气的冲洗气排出构件（51）。