基板处理系统、基板处理装置之控制方法及程式

摘要

本发明提供一种基板处理系统、基板处理装置之控制方法及用于该系统及/或方法之程式，其目的皆系欲实现对在经处理基板上之一成膜量的有效控制。该基板处理系统包括：一基板处理单元，其经调适用以在复数个基板之每一基板上形成一膜；一图案获得单元，其经调适用以获得关于与在该复数个基板中之未经处理基板及经处理基板的配置有关之一配置图案的资讯；以及一记忆体单元，其经调适用以在其中储存一配置/成膜量模型，该模型指示藉由在该复数个基板中的未经处理基板与经处理基板之配置对在该等基板上的成膜量施加之影响。一计算单元依据该配置/成膜量模型来计算在该配置图案之情况下在该等基板上之一估计成膜量。接着，一决定单元决定藉由该计算单元计算的该估计成膜量是否在一预定范围内。若藉由该计算单元计算的该估计成膜量系决定为在该预定范围内，则一控制单元将控制并驱动该基板处理单元来处理该基板。