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发明名称
微奈米压印成型之方法
摘要
本发明系有关于一种曲面奈米压印成型之方法,其包括:系在密闭室内,使用一预成形气密膜、一模具与一曲面基材上之曲面待压印物形成堆叠组合,当曲面待压印物被加热至软化可塑状态时,直接施压至堆叠组合,以便将模具组上的微结构转印至曲面待压印物。本发明之特征在于:相对应曲面基材形状之预成形气密膜将密闭室内分隔成第一及第二空间,使模具与曲面待压印物所形成之待压印组合处于第二空间内,在曲面待压印物处于可塑性状态下,以高压流体直接施压至堆叠组合,而将模具上的微结构转印制至曲面待压印物上。
申请公布号
TW200932656
申请公布日期
2009.08.01
申请号
TW097103692
申请日期
2008.01.31
申请人
国立台湾大学
发明人
张哲豪;李煜斌;王伦;陈永彬
分类号
B81B1/00(2006.01);B82B3/00(2006.01)
主分类号
B81B1/00(2006.01)
代理机构
代理人
吴冠赐;苏建太;林志鸿
主权项
地址
台北市大安区罗斯福路4段1号
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