| 摘要 |
一种曝光装置、曝光方法以及元件制造方法。在曝光装置中，第1移动装置与第2移动装置与基板移动装置分别使第1图案与第2图案与基板正向移动或逆向移动；而控制装置控制第1移动装置、第2移动装置、基板移动装置，并执行单曝光模式。亦即，控制装置使第1图案及第2图案正向移动，并利用第1曝光光及第2曝光光使得基板上的两个曝光照射区域分别依次曝光。另外，控制装置使第1图案及第2图案逆向移动，并至少伴随基板移动的反转而利用第1曝光光及第2曝光光使得基板上的与两个曝光照射区域相邻接的次两个曝光照射区域分别依次曝光。 |
