| 主权项 |
1.一种导光结构，包含：一导光体，包含一入光侧与一出光侧，其中该入光侧邻设于一光源；一高折射层包含一入光侧与一出光侧，其中该高折射层之该入光侧邻设于该导光体之该出光侧，且该高折射层之该入光侧表面包含一构型，用以使该光源之发射光在进入该高折射层时不产生偏折；以及一导光板包含一入光侧与一可视区界限空间范围，其中该导光板之该入光侧邻设于该高折射层之该出光侧，且该发射光于进入该导光板后，该发射光于该可视区界限空间范围内产生均匀混光效果。2.如请求项1之导光结构，其中该高折射层之折射率高于该导光板。3.如请求项1之导光结构，其中该高折射层之入光侧表面之该构型为一圆弧状构型。4.如请求项1之导光结构，其中该高折射层更包含复数扩散粒子。5.如请求项1之导光结构，其中该高折射层更包含复数密闭空洞。6.如请求项1之导光结构，其中该导光板之该出光侧更包括一构型，用以使该发射光于该可视区界限空间范围内产生均匀混光效果。7.一种光源装置，包含：一光源，用以产生一发射光；一导光体，包含一入光侧与一出光侧，其中该入光侧邻设于该光源；一高折射层包含一入光侧与一出光侧，其中该高折射层之该入光侧邻设于该导光体之该出光侧，且该高折射层之该入光侧表面包含一构型，用以控制该光源之发射光进入该高折射层之偏折角；以及一导光板包含一入光侧与一可视区界限空间范围，其中该导光板之该入光侧邻设于该高折射层之该出光侧，且具有该偏折角之该发射光于进入该导光板后，该发射光于该可视区界限空间范围内产生均匀混光效果。8.如请求项7之光源装置，其中该高折射层之折射率高于该导光板。9.如请求项7之光源装置，其中该高折射层之入光侧表面之该构型为一圆弧状构型。10.如请求项7之光源装置，其中该高折射层更包含复数扩散粒子。11.如请求项7之光源装置，其中该高折射层更包含复数密闭空洞。12.如请求项7之光源装置，其中该导光板之该出光侧更包括一构型，用以使该发射光于该可视区界限空间范围内产生均匀混光效果。13.如请求项7之光源装置，其中该光源为发光二极体。图式简单说明：第1图显示另一导光结构。第2图显示关于本创作之导光结构剖面图。第3图显示关于本创作之另一导光结构剖面图。第4图显示另一关于本创作之导光结构剖面图。 |
