| 摘要 |
本发明提供一种基板加热装置。该基板加热装置包含：一腔室；一基板支撑单元，其经组态以支撑至少一基板，在该至少一基板处于其顶面上形成一薄膜；以及至少一加热单元，其布置于邻近该基板之该后表面之一区域中。该加热单元包含：复数个反射单元，该复数个反射单元配置在该基板下；至少一灯加热单元，其布置于该复数个反射单元内；以及一短波长阻隔层，其布置于该灯加热单元上。藉由将该灯加热单元提供于其处在顶面上形成该薄膜或图案之该基板下以及将热能供应至该基板之该后表面，可以防止该薄膜效率之降级，例如由于热源引起的形成于该基板之顶面上的薄膜之降级或由于该基板与该薄膜之间的温度偏差而引起的该薄膜之剥落。此外，热能在该基板之该后表面的中心区域上广泛展开且热能系聚焦在该基板之边缘区域上，因而均匀加热大尺寸基板。 |
