发明名称 |
III族氮化物构造体及III族氮化物半导体微细柱状结晶之制造方法 |
摘要 |
本发明系一种III族氮化物构造体,其系含形成于基板(102)表面既定区域之具有由金属所构成之表面之膜(108)、与至少形成于基板(102)表面上之由III族氮化物半导体所构成之微细柱状结晶(110),而在并未形成该膜(108)之该基板(102)表面上,该微细柱状结晶(110)之空间占有率系高于该膜(108)上。 |
申请公布号 |
TW200933702 |
申请公布日期 |
2009.08.01 |
申请号 |
TW097133451 |
申请日期 |
2008.09.01 |
申请人 |
学校法人上智学院 |
发明人 |
岸野克巳;菊池昭彦 |
分类号 |
H01L21/20(2006.01);B82B3/00(2006.01);H01L33/00(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/20(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
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地址 |
日本 |