发明名称 III族氮化物构造体及III族氮化物半导体微细柱状结晶之制造方法
摘要 本发明系一种III族氮化物构造体,其系含形成于基板(102)表面既定区域之具有由金属所构成之表面之膜(108)、与至少形成于基板(102)表面上之由III族氮化物半导体所构成之微细柱状结晶(110),而在并未形成该膜(108)之该基板(102)表面上,该微细柱状结晶(110)之空间占有率系高于该膜(108)上。
申请公布号 TW200933702 申请公布日期 2009.08.01
申请号 TW097133451 申请日期 2008.09.01
申请人 学校法人上智学院 发明人 岸野克巳;菊池昭彦
分类号 H01L21/20(2006.01);B82B3/00(2006.01);H01L33/00(2006.01) 主分类号 H01L21/20(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本