| 发明名称 |
垂直磁记录媒体之中间层膜制造用Ｎｉ－Ｗ－Ｂ系溅镀靶材及使用此靶材制造的薄膜 |
| 摘要 |
提供一种Ni-W-B系中间层膜用合金及薄膜制造用溅镀靶材，制作成作为中间层之垂直磁记录媒体时经结晶粒之微细化可得到极为良好的记录特性。此溅镀靶材，以at％(原子百分率)表示下，由W：1~20％、B：0.1~10％以及剩余部份为Ni及不可避免之杂质所成。又，溅镀靶材，可藉由将以at％表示下，由W：1~20％、B：0.1~10％以及剩余部份为 Ni及不可避免之杂质所成之经气体雾化法所制作之原料粉末固化成型而制造。 |
| 申请公布号 |
TW200932935 |
申请公布日期 |
2009.08.01 |
| 申请号 |
TW097136872 |
申请日期 |
2008.09.25 |
| 申请人 |
山阳特殊制钢股份有限公司 |
发明人 |
泽田俊之;岸田敦;柳谷彰彦 |
| 分类号 |
C23C14/34(2006.01);C23C14/14(2006.01);B22F3/14(2006.01);B22F9/08(2006.01);C22C19/03(2006.01);G11B5/738(2006.01);G11B5/851(2006.01) |
主分类号 |
C23C14/34(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 |
