制造主动式塑胶平面显示器的方法

主权项

1.一种制造主动式塑胶平面显示器的方法，其步骤包括：a.提供一玻璃基板，并形成一牺牲层于该玻璃基板上；b.在该牺牲层上形成薄膜电晶体元件；c.在该薄膜电晶体元件上形成显示材料；d.在该显示材料上贴合一塑胶基材；e.利用雷射照射该玻璃基板使该玻璃基板以及该牺牲层与薄膜电晶体元件分离，并露出该薄膜电晶体元件；以及f.在该露出之薄膜电晶体元件上贴合另一塑胶基板而成。2.如申请专利范围第1项所述之制造主动式塑胶平面显示器的方法，其中该牺牲层为非晶矽。3.如申请专利范围第2项所述之制造主动式塑胶平面显示器的方法，其中该牺牲层中含有浓度为1～40vol%的氢。4.如申请专利范围第1项所述之制造主动式塑胶平面显示器的方法，其中该牺牲层的厚度为为200～10000。5.如申请专利范围第1项所述之制造主动式塑胶平面显示器的方法，其中该步骤(e)系使用准分子雷射。6.如申请专利范围第5项所述之制造主动式塑胶平面显示器的方法，其中该准分子雷射系使用XeCl。7.如申请专利范围第5项所述之制造主动式塑胶平面显示器的方法，其中准分子雷射能量为20～450mJ/cm2。8.如申请专利范围第1项所述之制造主动式塑胶平面显示器的方法，其中步骤(d)及(f)之塑胶基板系使用透光度高的胶而贴合于显示材料上。9.如申请专利范围第8项所述之制造主动式塑胶平面显示器的方法，其中该透光度高的胶为UV胶、热溶胶、环氧胶或透光度高的胶材。10.如申请专利范围第1项所述之制造主动式塑胶平面显示器的方法，其中步骤(a)形成牺牲层后还包括形成一保护层于该牺牲层上。11.如申请专利范围第10项所述之制造主动式塑胶平面显示器的方法，其中该保护层为SiN、SiO2、TiO2或Al2O3。12.如申请专利范围第11项所述之制造主动式塑胶平面显示器的方法，其中该保护层的厚度为500～5000。13.如申请专利范围第1项所述之制造主动式塑胶平面显示器的方法，其中在步骤(e)后还包括以硷性溶液移除残留于薄膜电晶体元件上之牺牲层。14.如申请专利范围第13项所述之制造主动式塑胶平面显示器的方法，其中该硷性溶液为四甲基氢氧化铵、氢氧化钾(KOH)等。15.如申请专利范围第1项所述之制造主动式塑胶平面显示器的方法，其中步骤(c)制造该薄膜电晶体的制程温度为300～400℃。16.如申请专利范围第1项所述之制造主动式塑胶平面显示器的方法，其中该显示材料为液晶、有机发光二极体(OLED)、聚合物发光二极体(PLED)或电泳显示材料(EPD)。图式简单说明：第1A~1E图系显示本发明之实施例的制造主动式塑胶平面显示器之方法的制程剖面图。第2图系显示一般薄膜电晶体的剖面图。