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发明名称 Method for fabricating thin dielectric of semiconductor device
摘要
申请公布号 KR100910220(B1) 申请公布日期 2009.07.31
申请号 KR20020040757 申请日期 2002.07.12
申请人 发明人
分类号 H01L21/31;(IPC1-7):H01L21/31 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人
主权项
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