发明名称 Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung
摘要
申请公布号 DE102005014722(B4) 申请公布日期 2009.07.30
申请号 DE200510014722 申请日期 2005.03.31
申请人 DENSO CORPORATION;SUMITOMO MITSUBISHI SILICON CORP. 发明人 YAMAUCHI, SHOICHI;YAMAGUCHI, HITOSHI;MAKINO, TOMOATSU;NOGAMI, SYOUJI;YAMAOKA, TOMONORI
分类号 H01L21/336;H01L29/06;H01L21/20;H01L21/205;H01L21/338;H01L21/8234;H01L29/78 主分类号 H01L21/336
代理机构 代理人
主权项
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