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<p>Eine Projektionsbelichtungsanlage (10; 110; 210) für die Mikrolithographie wird bereitgestellt. Diese umfasst: eine Maskenhalteeinrichtung (14) zum Halten einer Maske (18) mit darauf angeordneten Maskenstrukturen (20), wobei die Maskenhalteeinrichtung (14) gegenüber einem Referenzelement (16) der Projektionsbelichtungsanlage (10; 110; 210) verschiebbar gelagert ist, eine Substrathalteeinrichtung (36) zum Halten eines Substrats (30), eine Projektionsoptik (26) zum Abbilden der Maskenstrukturen (20) auf das Substrat (30) während eines Belichtungsvorganges sowie eine Messeinrichtung (40) zum Überwachen der lateralen Abbildungsstabilität der Projektionsoptik während des Belichtungsvorganges. Die Messeinrichtung (40) umfasst: eine Messstruktur (48), welche an dem Referenzelement (16) ortsfest angeordnet ist, einen Detektor (52; 52a; 52b) mit einer Erfassungsfläche (51) zum Erfassen eines durch Abbildung mittels der Projektionsoptik (26) auf dem Detektor (52; 52a; 52b) erzeugten Bildes der Messstruktur (40), wobei die Messstruktur (48) und der Detektor (52; 52a; 52b) derart angeordnet sind, dass im Betrieb der Projektionsbelichtungsanlage (10; 110; 210) die Abbildung der Maskenstrukturen (20) auf das Substrat (30) und die Abbildung der Messstruktur (48) auf den Detektor (52; 52a; 52b), jeweils mittels der Projektionsoptik (26) gleichzeitig erfolgen und die Messeinrichtung weiterhin eine Auswerteeinrichtung umfasst, welche dazu konfiguriert ist, eine laterale Lage des Bildes ...</p> |
