| 发明名称 | 电容器阴极用箔及其制造方法 | ||
| 摘要 | 提供可同时确保高电容量和高强度的电容器阴极用箔以及其制造方法。电容器阴极用箔包括铝箔和在该铝箔的表面上形成的含碳层。在铝箔和含碳层之间形成有含有铝和碳的介入层。电容器阴极用箔的制造方法包括在含有含烃物质的空间配置铝箔的工序，和对该铝箔进行加热的工序。 | ||
| 申请公布号 | CN100521013C | 申请公布日期 | 2009.07.29 |
| 申请号 | CN200380110215.9 | 申请日期 | 2003.11.27 |
| 申请人 | 东洋铝株式会社 | 发明人 | 吕明哲;足高善也 |
| 分类号 | H01G9/04(2006.01)I;H01G9/045(2006.01)I;H01G9/055(2006.01)I | 主分类号 | H01G9/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 樊卫民;杨 青 |
| 主权项 | 1. 电容器阴极用箔，其包括：铝箔；含碳层，形成于所述铝箔的表面上；介入层，形成于所述铝箔和所述含碳层之间，含有铝和碳；所述含碳层，以从所述铝箔的表面向外侧延伸的方式形成。 | ||
| 地址 | 日本国大阪府 | ||