发明名称 清洗装置
摘要 本发明提供一种能去除附着在由金属薄膜所构成的掩膜上的有机材料的清洗装置。本发明的清洗装置具有:由预定的清洗液清洗处理掩膜10的第1及第2清洗槽21、22;用以真空蒸馏该清洗槽21、22的清洗液的真空蒸馏器30;将真空蒸馏的清洗液冷却至室温的第1冷却器31;使由第1冷却器31所冷却的清洗液回流至第2清洗槽22的第1回流管101;利用预定的冲洗液对掩膜10进行冲洗处理的第1及第2冲洗槽51、52;在常压下蒸馏该冲洗槽51、52的清洗液的常压蒸馏器60;将常压蒸馏的冲洗液冷却至室温的第2冷却器61;使由第2冷却器61所冷却的冲洗液回流至第2冲洗槽52的第2回流管102。
申请公布号 CN100519823C 申请公布日期 2009.07.29
申请号 CN200510093697.2 申请日期 2005.09.01
申请人 三洋电机株式会社;十亿科技株式会社;大川兴产株式会社 发明人 木野村芳孝;平冈照雄;大川光治郎
分类号 C23C14/22(2006.01)I;C23C14/12(2006.01)I 主分类号 C23C14/22(2006.01)I
代理机构 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人 程 伟
主权项 1. 一种清洗装置,用以去除附着在由金属薄膜所构成的掩膜上的有机EL用的有机材料,其特征为具有:清洗槽,由预定的清洗液清洗处理所述掩膜;真空蒸馏器,真空蒸馏从所述清洗槽溢流的所述清洗液;第1冷却器,将由所述真空蒸馏器真空蒸馏的所述清洗液冷却至室温;第1回流管,使由所述第1冷却器所冷却的所述清洗液回流至所述清洗槽;冲洗槽,利用预定的冲洗液对通过所述清洗槽清洗的所述掩膜进行冲洗处理;常压蒸馏器,在常压下蒸馏从所述冲洗槽溢流的所述冲洗液;第2冷却器,将由所述常压蒸馏器常压蒸馏的所述冲洗液冷却至室温;及第2回流管,使由所述第2冷却器所冷却的所述冲洗液回流至所述冲洗槽。
地址 日本大阪