| 发明名称 | 微透镜制造方法和固态图像传感器制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明披露了一种微透镜制造方法和固态图像传感器制造方法，其中，微透镜制造方法包括通过在形成于基板上的微透镜形成膜上压上其中形成有微透镜的反转形状的微透镜模，以将微透镜的反转形状转印到微透镜形成膜上，形成微透镜。通过用曝光光束通过相对的二维扫描照射形成于模基板上的无机抗蚀膜，并且蚀刻无机抗蚀膜的露出区域以形成微透镜的反转形状，形成微透镜模。基于微透镜的反转形状的轮廓数据，曝光光束的照射强度被调节为对应于微透镜的反转形状从无机抗蚀膜的表面起的深度。 | ||
| 申请公布号 | CN101493650A | 申请公布日期 | 2009.07.29 |
| 申请号 | CN200910009801.3 | 申请日期 | 2009.01.23 |
| 申请人 | 索尼株式会社 | 发明人 | 藤田五郎;小林诚司;齐藤公博;今西慎悟 |
| 分类号 | G03F7/00(2006.01)I;G02B3/00(2006.01)I;H01L21/82(2006.01)I;H01L27/146(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 余 刚;吴孟秋 |
| 主权项 | 1.一种微透镜制造方法，包括：通过在形成于基板上的微透镜形成膜上压上其中形成有微透镜的反转形状的微透镜模，以将所述微透镜的反转形状转印到所述微透镜形成膜上，形成微透镜；其中，通过用曝光光束通过相对的二维扫描来照射形成在模基板上的无机抗蚀膜，并蚀刻所述无机抗蚀膜的露出区域以形成所述微透镜的反转形状，形成所述微透镜模；以及基于所述微透镜的反转形状的轮廓数据，所述曝光光束的照射强度被调节为对应于所述微透镜的反转形状从所述无机抗蚀膜的表面起的深度。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||