发明名称 通过高能辐射持久性划刻基材的颜料层和方法
摘要 本申请披露了具体用于持久性标记玻璃的颜料层,其基于聚合物基体,该聚合物基体主要通过粉碎与高能光束,尤其是激光照射起反应,该颜料层包括至少一种钛供体,以及在能量照射下提供自由碳的碳供体。
申请公布号 CN101491984A 申请公布日期 2009.07.29
申请号 CN200910002391.X 申请日期 2009.01.12
申请人 蒂萨股份公司 发明人 阿恩·库普斯;斯文·雷特;乔切恩·斯特尔
分类号 B41M5/26(2006.01)I 主分类号 B41M5/26(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 吴培善
主权项 1.意图用于持久性标记基材,特别是玻璃的颜料层,其基于聚合物基体,该聚合物基体主要通过粉碎在高能辐射,特别是在激光照射下起反应,特征在于:该颜料层包括钛供体和碳供体作为成分,其中所述碳供体在能量照射下提供自由碳。
地址 德国汉堡