发明名称 | 通过高能辐射持久性划刻基材的颜料层和方法 | ||
摘要 | 本申请披露了具体用于持久性标记玻璃的颜料层,其基于聚合物基体,该聚合物基体主要通过粉碎与高能光束,尤其是激光照射起反应,该颜料层包括至少一种钛供体,以及在能量照射下提供自由碳的碳供体。 | ||
申请公布号 | CN101491984A | 申请公布日期 | 2009.07.29 |
申请号 | CN200910002391.X | 申请日期 | 2009.01.12 |
申请人 | 蒂萨股份公司 | 发明人 | 阿恩·库普斯;斯文·雷特;乔切恩·斯特尔 |
分类号 | B41M5/26(2006.01)I | 主分类号 | B41M5/26(2006.01)I |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 吴培善 |
主权项 | 1.意图用于持久性标记基材,特别是玻璃的颜料层,其基于聚合物基体,该聚合物基体主要通过粉碎在高能辐射,特别是在激光照射下起反应,特征在于:该颜料层包括钛供体和碳供体作为成分,其中所述碳供体在能量照射下提供自由碳。 | ||
地址 | 德国汉堡 |