发明名称 真空处理装置、静电卡盘的诊断方法及存储介质
摘要 本发明提供了一种真空处理装置,其在对基板执行真空处理时,在开始使用静电卡盘前,能够诊断电介质层的绝缘状态。在吸附保持玻璃基板(G)等的喷涂型的静电卡盘(22)中,高压电源(67)向静电卡盘(22)的卡盘电极(24)施加比吸附保持玻璃基板(G)的情况低的直流电压即诊断电压,各测量器(70、71)取得各测量位置的电气特性(电压和电流)的测量数据。于是,作为诊断部的控制部(80),将上述电气特性的测量数据分别与预先针对电气特性规定的设定数据(阈值)相比,诊断该静电卡盘(22)是否出于可以使用的状态。
申请公布号 CN100521082C 申请公布日期 2009.07.29
申请号 CN200710140389.X 申请日期 2007.08.10
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 古屋敦城;里吉务
分类号 H01L21/00(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;H01L21/683(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I;B23Q3/15(2006.01)I 主分类号 H01L21/00(2006.01)I
代理机构 北京尚诚知识产权代理有限公司 代理人 龙 淳
主权项 1. 一种真空处理装置,其特征在于:在设置于真空容器内的载置台的静电卡盘上载置基板,向卡盘电极施加卡盘电压而使基板静电吸附在静电卡盘上,并对基板进行处理,包括:用于向所述卡盘电极施加比在真空处理时的卡盘电压低的诊断电压的电源;用于在向所述卡盘电极施加诊断电压时测量静电卡盘的电气特性并取得其测量数据的测量部;根据由该测量部取得的所述测量数据和预先设定的设定数据,对能否使用所述静电卡盘进行诊断的诊断部。
地址 日本东京都