| 发明名称 | 涂敷方法及涂敷装置 | ||
| 摘要 | 在上浮输送方式中有效地降低或抑制在形成于被处理基板上的处理液的涂敷膜上产生条纹状的涂敷不均。在涂敷区域中，沿X方向延伸的多条喷出线(C<sub>1</sub>、C<sub>3</sub>、C<sub>5</sub>、...)和沿X方向延伸的多条吸引线(C<sub>2</sub>、C<sub>4</sub>、C<sub>6</sub>、...)在Y方向上以一定的间距(W)交替地排列，在各喷出线(C<sub>2n-1</sub>)上隔开一定间隔(3D)地配置喷出口(88)，并且，在各吸引线(C<sub>2n</sub>)上隔开一定间隔(3D)地配置吸引口(90)，在相邻的喷出线(C<sub>2n-1</sub>)和吸引线(C<sub>2n</sub>)之间，喷出口(88)和吸引口(90)在X方向上偏移一定距离(D)。进而，长槽(88a、90a)从喷出口(88)、吸引口(90)的上端部向顺着输送方向(X方向)的方向和与其相反的方向笔直地延伸成两路。 | ||
| 申请公布号 | CN101495244A | 申请公布日期 | 2009.07.29 |
| 申请号 | CN200780028398.8 | 申请日期 | 2007.07.05 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 稻益寿史;池田文彦;篠崎贤哉;大塚庆崇 |
| 分类号 | B05C5/02(2006.01)I;B05C13/02(2006.01)I;B05D1/26(2006.01)I;B05D1/42(2006.01)I;B65G49/05(2006.01)I;B65G51/03(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | B05C5/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 温大鹏 |
| 主权项 | 1、一种涂敷装置，具有：工作台，具有第一上浮区域，该第一上浮区域中混合设置有喷出气体的多个喷出口和吸入气体的多个吸引口；基板输送部，在使被处理基板在所述工作台上浮起的状态下，该基板输送部使所述被处理基板沿预定的输送方向通过所述第一上浮区域；处理液供给部，具有配置在所述第一上浮区域的上方的喷嘴，从所述喷嘴排出所述处理液以在所述基板上形成处理液的涂敷膜；以及长槽，以从所述喷出口或所述吸引口的上端部沿相对于所述输送方向平行或倾斜锐角角度的第一方向延伸的方式，形成于所述第一上浮区域内的所述工作台的上表面。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||