基板处理装置

摘要

基板处理装置包括水平保持基板使其绕铅垂旋转轴线旋转的保持单元；对该单元保持的基板供给处理液的供给单元；第一引导部，围在保持单元周围，有沿旋转轴线延伸的上端部，引导处理液流下；第二引导部，位于第一引导部外侧并围着保持单元，有沿旋转轴线延伸并与第一引导部上端部重叠的上端部，引导处理液流下；第三引导部，位于第二引导部外侧并围着保持单元，有沿旋转轴线延伸并与第二引导部上端部重叠的上端部，引导处理液流下；第一回收槽，位于第一引导部外侧并与第一引导部一体，回收由第二引导部引导的处理液；第二回收槽，位于第一回收槽外侧并与第一引导部一体，回收由第三引导部引导的处理液；使各引导部分别独立升降的驱动机构。

主权项

1. 一种基板处理装置，包括：基板保持单元，其将基板保持为水平，并使该基板绕铅垂的旋转轴线旋转；处理液供给单元，其用于对由所述基板保持单元所保持的基板供给处理液；第一引导部，其围绕在所述基板保持单元的周围，并具有朝向所述旋转轴线延伸的上端部，该第一引导部对从利用所述基板保持单元而旋转的基板上飞散的处理液进行引导，以使该处理液流下；第二引导部，其位于所述第一引导部的外侧并围绕在所述基板保持单元的周围，具有朝向所述旋转轴线延伸的上端部，该上端部与所述第一引导部的上端部在上下方向上重叠，该第二引导部对从利用所述基板保持单元而旋转的基板上飞散的处理液进行引导，以使该处理液流下；第三引导部，其位于所述第二引导部的外侧并围绕在所述基板保持单元的周围，具有朝向所述旋转轴线延伸的上端部，该上端部与所述第二引导部的上端部在上下方向上重叠，该第三引导部对从利用所述基板保持单元而旋转的基板上飞散的处理液进行引导，以使该处理液流下；第一回收槽，其位于所述第一引导部的外侧并与所述第一引导部设置为一体，对由所述第二引导部引导的处理液进行回收；第二回收槽，其位于所述第一回收槽的外侧并与所述第一引导部设置为一体，对由所述第三引导部引导的处理液进行回收；驱动机构，其用于使所述第一、第二和第三引导部分别独立地升降；处理液分离壁，该处理液分离壁与所述第二引导部一体设置，防止被引导到所述第二引导部的上端部和所述第三引导部的上端部之间的处理液进入到所述第一回收槽内，并将该处理液引导到所述第二回收槽中。