发明名称 氮化镓基发光二极管
摘要 本发明公开的氮化镓基发光二极管,包括蓝宝石衬底、缓冲层、n型GaN基外延层、有源层、p型GaN基外延层、黏附层、ITO层、p电极和n电极,其中,最底层为蓝宝石衬底;缓冲层形成于蓝宝石衬底之上;n型GaN基外延层形成于缓冲层之上;有源层形成于n型GaN基外延层之上,其材料为氮化铟镓;p型GaN基外延层形成于有源层之上;铟镓氧化物层为黏附层形成于p型GaN基外延层之上,p电极形成于ITO层之上,n电极形成于n型GaN基外延层之上。通过在ITO与p型GaN基外延层之间引入铟镓氧化物层,以解决ITO与p型GaN基外延层黏附性差的问题,提高氮化镓基发光二极管的可靠性。
申请公布号 CN101494266A 申请公布日期 2009.07.29
申请号 CN200810237809.0 申请日期 2008.11.28
申请人 厦门市三安光电科技有限公司 发明人 潘群峰;吴志强;林科闯
分类号 H01L33/00(2006.01)I 主分类号 H01L33/00(2006.01)I
代理机构 厦门原创专利事务所 代理人 徐东峰
主权项 1.氮化镓基发光二极管,包括:一蓝宝石衬底;一缓冲层形成于蓝宝石衬底之上;一n型GaN基外延层形成于缓冲层之上;一有源层,其材料为氮化铟镓,形成于n型GaN基外延层之上;一p型GaN基外延层形成于有源层之上;一黏附层,其材料为铟镓氧化物的混合物,该混合物形成于p型GaN基外延层之上;一铟锡氧化物ITO层形成于黏附层之上;一p电极,其材料包含Al或者Au,形成于ITO层之上;一n电极,其材料包含Al或者Au,形成于n型GaN基外延层之上。
地址 361009福建省厦门市思明区吕岭路1721-1725号