发明名称 液体处理装置及液体处理方法
摘要 在对静止状态的基板的表面供给处理液进行处理时,抑制处理液迂回到基板的背面侧而良好地进行清洗。在对被基板保持部水平地保持的基板供给处理液而进行既定的处理时,例如在供给处理液前从遍及整周地与基板的背面对置的排出口排出清洗液,并且将供给到该基板的背面侧的清洗液及从基板的表面迂回过来的液体从吸引口遍及整周地与基板背面对置的第1吸引机构吸引,由此形成沿着基板的背面而例如从内侧朝向外侧流动的清洗液液流。在此情况下,不依赖例如旋转带来的液体的甩干作用,也能够抑制从基板的表面侧迂回到背面侧的液体,所以能够良好地清洗基板。
申请公布号 CN100521099C 申请公布日期 2009.07.29
申请号 CN200580025536.8 申请日期 2005.03.31
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 锦户修一
分类号 H01L21/304(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I;B08B5/04(2006.01)I;B08B7/04(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I 主分类号 H01L21/304(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 温大鹏;廖凌玲
主权项 1、一种液体处理装置,其特征在于,包括:基板保持部,水平地保持基板;处理液供给部,对由该基板保持部保持的基板的表面供给处理液;漂洗液喷嘴,在对由上述基板保持部保持的基板的表面供给处理液而进行液体处理后,对该基板的表面供给漂洗液;吸引喷嘴,用于将由上述漂洗液喷嘴供给到该基板表面的漂洗液吸引除去而使基板干燥;清洗液供给部,其排出口在对着上述基板的整个周缘的位置上向着上述基板的背面侧开口,以便对由上述基板保持部保持的基板的背面侧的周缘部供给清洗液;第1吸引机构,其吸引口在对着上述基板的整个周缘的位置上与该基板的背面对置,以便吸引由该清洗液供给部供给到基板的背面侧的清洗液,形成沿着基板的背面从内侧及外侧中的一侧朝向另一侧流动的清洗液液流,将从基板的表面侧迂回到背面侧的液体与该清洗液液流一起吸走;在清洗液供给部的清洗液排出口与第1吸引机构的吸引口之间,形成有比排出口及吸引口高的溢流部,在该溢流部与基板的背面之间形成液流密封部。
地址 日本东京都