发明名称 | 汽缸停止位置可变机构及具备此之基板处理装置 | ||
摘要 | [课题]提供在半导体基板之处理装置中,几乎不使基板或其载置台振动而予以升降,并且可自由改变升降之上下停止位置之手段。[解决手段]对于具有活塞和传动轴且以流体压驱动之汽缸,具备有被贯通卡止于传动轴之停止器,和与该停止器抵接,使上述活塞之进退停止的一对限制器,和令该限制器位置可变更之限制器移动机构的汽缸停止位置可变机构。再者,以马达控制该限制器移动机构,并在上述一对限制器之每个设置移动机构,各个可以独立控制位置。 | ||
申请公布号 | TW200930900 | 申请公布日期 | 2009.07.16 |
申请号 | TW097132202 | 申请日期 | 2008.08.22 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 林大辅;野中龙 |
分类号 | F15B15/24(2006.01);H01L21/67(2006.01) | 主分类号 | F15B15/24(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 林志刚 | |
主权项 | |||
地址 | 日本 |