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发明名称
化学气相沉积程序之源物质量之测量方法
摘要
本发明系提供一种方法,该方法系于将自收纳于源物质蒸发部之源物质蒸发的源气体供给至沉积室并执行薄膜沉积之化学气相沉积程序中,测量残留于源物质蒸发部之源物质量者,又,有关本发明之方法包含有以下步骤,即:(a)将源物质蒸发部之气体压力维持于第1压力者;及(b)将测量气体供给至源物质蒸发部,并将源物质蒸发部之气体压力维持于第2压力者,又,自直到源物质蒸发部之气体压力从第1压力到达第2压力时之测量气体的供给量或供给时间,测量残留于源物质蒸发部之源物质量。
申请公布号
TW200930828
申请公布日期
2009.07.16
申请号
TW097146285
申请日期
2008.11.28
申请人
特艾希米控公司
发明人
张泽龙;李炳一
分类号
C23C16/00(2006.01);H01L21/02(2006.01)
主分类号
C23C16/00(2006.01)
代理机构
代理人
恽轶群;陈文郎
主权项
地址
南韩
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