真空处理系统及基板搬运方法

摘要

真空处理系统（1）具备有：将PVD处理腔室（12～15）连接于搬运晶圆W之第1搬运室（11）而所构成之第1处理部（2）；和将CVD处理腔室（22、23）连接于搬运晶圆之第2搬运室（21）而所构成之第2处理部（3）；和隔着闸阀（G）被设置在第1搬运室（11）及第2搬运室（12）之间，收容晶圆（W），并且可执行压力调整之缓冲室（5a）；和缓冲室（5a）对第1搬运室（11）及第2搬运室（12）中之任一方选择性贯通，以其内部之压力适合于贯通之搬运室内之压力的方式，控制闸阀（G）之开关及缓冲室（5a）之压力的控制部（110）。