发明名称 用于压印制程之模仁制造方法
摘要 一种用于压印制程之模仁制造方法,其包括以下步骤:提供一透光基底;提供一承载基底;于透光基底与承载基底之间设置负光阻层;应用直写技术经由透光基底对负光阻层曝光;移去承载基底;显影,形成模仁。该制造方法制程简单,提高了生产效率。
申请公布号 TW200931171 申请公布日期 2009.07.16
申请号 TW097100358 申请日期 2008.01.04
申请人 鸿海精密工业股份有限公司 发明人 骆世平
分类号 G03F1/14(2006.01);G03F5/00(2006.01) 主分类号 G03F1/14(2006.01)
代理机构 代理人
主权项
地址 台北县土城市自由街2号