发明名称 | 用于压印制程之模仁制造方法 | ||
摘要 | 一种用于压印制程之模仁制造方法,其包括以下步骤:提供一透光基底;提供一承载基底;于透光基底与承载基底之间设置负光阻层;应用直写技术经由透光基底对负光阻层曝光;移去承载基底;显影,形成模仁。该制造方法制程简单,提高了生产效率。 | ||
申请公布号 | TW200931171 | 申请公布日期 | 2009.07.16 |
申请号 | TW097100358 | 申请日期 | 2008.01.04 |
申请人 | 鸿海精密工业股份有限公司 | 发明人 | 骆世平 |
分类号 | G03F1/14(2006.01);G03F5/00(2006.01) | 主分类号 | G03F1/14(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | |||
地址 | 台北县土城市自由街2号 |