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发明名称
高效能金氧半场效电晶体
摘要
提供一种显现高装置效能及改善短通道效应之半导体结构。尤其是本发明提供一种金氧半场效电晶体(MOSFET),其包含低掺杂质浓度于结构的反转层,反转层为形成于半导体基板部份顶上之磊晶半导体层。本发明结构亦包含第一导电型之井区于反转层之下,其中井区具有部份以及两个水平邻接的端部。部份具有比两个水平邻接的端部还高的第一导电型掺杂质浓度,这样的井区可称为非一致超陡峭逆行井。
申请公布号
TW200931666
申请公布日期
2009.07.16
申请号
TW097136612
申请日期
2008.09.24
申请人
万国商业机器公司
发明人
朱惠蓉;王敬
分类号
H01L29/78(2006.01);H01L21/336(2006.01)
主分类号
H01L29/78(2006.01)
代理机构
代理人
蔡玉玲
主权项
地址
美国
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