常压乾燥装置及基板处理装置及基板处理方法

摘要

本发明之目的在于对于涂布于被处理基板上之处理液之膜，确实且轻易地防止乾燥斑之发生而有效率地提升涂布膜之膜质。将于上游侧邻之抗蚀剂涂布单元经涂布抗蚀剂液之基板G，在加热用上浮台座106上从较至此为止之常温以更高之温度加热。藉由从该基板背侧之加热，促进在基板G上之抗蚀剂涂布膜之主体部的溶剂液相扩散。另一方面，在冷风喷嘴130与吸入口132之间，使基板G上之抗蚀剂涂布膜表面暴露于冷风CA中。藉此，使抗蚀剂涂布膜之表层部之溶剂扩散，尤其往空中之气相扩散受到抑制。