电浆ＣＶＤ反应室之簇射电极板

摘要

本发明是有关于一种用于电浆化学气相沈积(CVD)的方法以及装置。具体而言，具有清洁功能的电浆CVD装置具有改进的簇射板，此改进的簇射板具有横截面积均匀的孔，以获得较高的清洁率。簇射板可用作电极，并且可具有连接到电源的电性导电延长线。相较于用以在沈积制程期间保证较好的膜厚均匀度之知孔加工表面面积，流有清洁气体及反应源气体的簇射板可包括与知的孔加工表面面积大小不同的孔加工表面面积。孔加工表面面积的大小可基于待处理的基板的大小或基于簇射板的全部表面的大小而改变。