蚀刻遮罩之形成方法、控制程式及程式储存媒体

摘要

根据光阻层105b的量测线宽以及SiO#sB!2#eB!层103所构成之遮罩图案的量测线宽，执行前馈控制，俾能使由利用光阻层105b作为遮罩而形成之Si#sB!3#eB!N#sB!4#eB!层102所构成之遮罩的线宽与SiO#sB!2#eB!层103所构成之遮罩图案的线宽相同。例如，控制光阻层105b之线宽之修整量，俾能使光阻层105b的线宽与由SiO#sB!2#eB!层103所构成之遮罩图案的线宽相同。