用以清洗研磨垫之组成物

摘要

本发明之组成物系至少包含有：至少一种有机酸及其盐类，而该组成物之pH值约为0.5~5，该组成物系用于清洗研磨垫，不仅具有高清洁力，亦可延长研磨垫之使用寿命，更不会腐蚀晶圆。