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发明名称
计算方法、产生方法、程式、曝光方法及遮罩制造方法
摘要
本发明提供一种计算形成于投射光学系统之影像平面上的光强度分布之计算方法,包含一分割步骤,分割形成于投射光学系统之光瞳平面上的有效光源成为复数个点光源、一移动步骤,针对各复数个点光源并根据彼等的位置而移动描述投射光学系统之光瞳的光瞳函数,藉此产生复数个移动的光瞳函数、一定义步骤,定义包括该复数个光瞳函数之矩阵,一执行步骤,执行矩阵的奇异值分解,藉此计算本徵值及本徵函数,以及一计算步骤,基于由遮罩之图案所绕射的光强度分布以及本徵值及本徵函数,计算光强度分布。
申请公布号
TW200931191
申请公布日期
2009.07.16
申请号
TW097137749
申请日期
2008.10.01
申请人
佳能股份有限公司
发明人
山添贤治
分类号
G03F7/20(2006.01);G03B27/52(2006.01);H01L21/027(2006.01);G06F9/44(2006.01)
主分类号
G03F7/20(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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