用以控制微负载效应之脉冲偏压电浆处理

摘要

提供一种透过较宽及较窄特征部的遮罩来蚀刻导电层之方法。通入一稳态蚀刻气体。提供一稳态RF电力以由此蚀刻气体而形成电浆。在稳态蚀刻气体流动期间，提供一频率介于1Hz到10000Hz之间之脉冲偏压。利用由此蚀刻气体所形成的电浆以蚀刻较宽及较窄的特征部至导电层。