发明名称 | 画素结构及其制作方法 | ||
摘要 | 本发明提出一种画素结构,其画素结构包括:一基板、一浮置之遮光图案设于基板上、一绝缘层设于该基板与该遮光图案上、一资料线设于遮光图案之上方并对应遮光图案、一介电层设于资料线与绝缘层上,以及一第三层导电图案设置于介电层上。第三层导电图案包含一共通线及一共通图案,其通图案具有两支线,两支线之间具有一间隙,且此间隙系位于资料线上方。 | ||
申请公布号 | TW200931148 | 申请公布日期 | 2009.07.16 |
申请号 | TW097100806 | 申请日期 | 2008.01.09 |
申请人 | 友达光电股份有限公司 | 发明人 | 陈茂松;石志鸿;江怡禛 |
分类号 | G02F1/136(2006.01);H01L29/786(2006.01) | 主分类号 | G02F1/136(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 许锺迪 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行二路1号 |