电浆处理装置

摘要

[课题]提供一种：能够将被覆盖在基板之外周缘部分处的遮罩进行正确的定位的电浆处理装置。[解决手段]在电浆处理装置(1)之处理容器(10)内，具备有：升降机构(14)，系在非电浆处理时，将平台(12)下降至待机位置，并在电浆处理时，将平台(12)上升至处理位置；和保持构件(30)，系在待机位置与处理位置之间，将覆盖基板(G)之外周缘部份的遮罩(31)可自由脱离地作保持；和定位机构，系在平台(12)上对遮罩(31)作定位，遮罩(31)，系并未经由保持构件(30)而被定位，且以可在水平方向上自由移动的方式而被保持，平台(12)，当从待机位置而被上升至处理位置时，遮罩(31)系从保持构件(30)而被递交至平台(12)上，且，在平台(12)上，遮罩(31)系藉由定位机构而被作定位。