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发明名称
半导体装置及其制造方法
摘要
一种半导体装置具有一半导体晶片及穿过该半导体晶片所形成之贯穿电极。在该半导体晶片之相对于第一表面(主表面)的第二表面上经由一由SiO#sB!2#eB!或SiN所形成之无机绝缘层设置一连接至该贯穿电极之接地层及一连接至该贯穿电极之平板天线。
申请公布号
TW200931623
申请公布日期
2009.07.16
申请号
TW097150906
申请日期
2008.12.26
申请人
新光电气工业股份有限公司
发明人
藤井朋治
分类号
H01L23/52(2006.01);H01Q1/38(2006.01)
主分类号
H01L23/52(2006.01)
代理机构
代理人
赖经臣;宿希成
主权项
地址
日本
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