Verfahren zum Verringern der Abmessungen eines Bildmusters in einer Photoresistschicht,申请号DE20026032482-传众专利搜索

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发明名称	Verfahren zum Verringern der Abmessungen eines Bildmusters in einer Photoresistschicht
摘要
申请公布号	DE60232482(D1)	申请公布日期	2009.07.16
申请号	DE20026032482	申请日期	2002.06.21
申请人	TOKYO OHKA KOGYO CO. LTD.	发明人	SUGETA, YOSHIKI;KANEKO, FUMITAKE;TACHIKAWA, TOSHIKAZU
分类号	G03F7/40;H01L21/027	主分类号	G03F7/40
代理机构		代理人
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