发明名称 | 光刻机扫描曝光系统及其扫描曝光方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种光刻机扫描曝光系统,包括光源以及沿着光源出射光束形成的光路依次排列的柱面镜、变焦镜组、光学均匀器、耦合光组、掩模板、物镜、工件台,在所述变焦镜组和光学均匀器之间设置有光束旋转镜组,所述光束旋转镜组由若干组光学元件组成。扫描曝光时,先对曝光场区域扫描曝光后,将所述光束旋转镜组移入所述光路中,再次对曝光场区域扫描曝光,完成扫描曝光后移开所述光束旋转镜组,改善了曝光场Y方向的剂量均匀性,又能改善X方向的剂量均匀性,从而改善曝光剂量的系统性能,提高光刻线宽的均匀性。 | ||
申请公布号 | CN101482705A | 申请公布日期 | 2009.07.15 |
申请号 | CN200910046485.7 | 申请日期 | 2009.02.23 |
申请人 | 上海微电子装备有限公司 | 发明人 | 张俊;罗鸣 |
分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人 | 屈 蘅;李时云 |
主权项 | 1. 一种光刻机扫描曝光系统,包括光源以及沿着光源出射光束形成的光路依次排列的柱面镜、变焦镜组、光学均匀器、耦合光组、掩模板、物镜、工件台,其特征在于:在所述变焦镜组和光学均匀器之间设置有光束旋转镜组。 | ||
地址 | 201203上海市张江高科技园区张东路1525号 |