可旋转溅射靶

摘要

本发明涉及一种可旋转溅射靶及制造这样的溅射靶的方法。该溅射靶包含靶材料和位于该靶材料内部的磁体阵列。磁体阵列限定了沿靶材料长度主要部分延伸的中心区域，并限定了中心区域每个末端的末端区域。靶材料包含第一材料和第二材料。该靶材料至少在中心区域包含第一材料，并至少在末端区域负含第二材料。该第二材料的溅射沉积速率比第一材料低。优选通过热喷涂施加第二材料。第一材料包含第一元素且第二材料包含第一材料的第一元素的化合物。

主权项

1. 一种可旋转溅射靶，包含靶材料和位于所述靶材料内部的磁体阵列，所述磁体阵列限定了沿所述靶材料长度的主要部分延伸的中心区域，并在所述中心区域的每个末端限定了末端区域，所述靶材料包含第一材料和第二材料，所述第二材料的溅射沉积速率低于所述第一材料，所述靶材料至少在所述中心区域包含所述第一材料且至少在所述末端区域包含所述第二材料，其特征在于所述第一材料包含第一元素，且所述第二材料包含所述第一材料的所述第一元素的化合物。