发明名称 |
山药定向槽浅生栽培方法 |
摘要 |
本发明涉及一种山药定向槽浅生栽培方法,技术方案包含,按垄体包沟行距为L<sub>1</sub>=0.9~1.7m,开挖斜面宽度为L<sub>2</sub>=0.5~1.1m,斜面坡度为α=12~40度,斜面的底部距地面高度为H<sub>1</sub>=13~38cm,斜面的顶部升起地面并距地面高度为H<sub>2</sub>=8~15cm;在斜面上撒施常规基肥后,沿斜面按株距20~25cm开挖与定向槽匹配的小沟,该小沟顺着斜面坡向开挖,然后,在小沟内放置定向槽,并在定向槽内置入松软填料;回填厚度为H<sub>3</sub>=5~15cm的耕作土,并整理成为带有边沟的垄体,该边沟的宽度和深度按常规处理;在水平距定向槽上端1~3cm、竖向距定向槽上端4~10cm的上方处种下薯种。具有适合在各种土壤中种植、采收方便、产量高、品质好、商品性状好的优点,适用于各种薯蓣科山药栽培种植。 |
申请公布号 |
CN100512623C |
申请公布日期 |
2009.07.15 |
申请号 |
CN200710028266.7 |
申请日期 |
2007.05.26 |
申请人 |
林桂发 |
发明人 |
林桂发;卢炎标 |
分类号 |
A01G1/00(2006.01)I;A01C14/00(2006.01)I |
主分类号 |
A01G1/00(2006.01)I |
代理机构 |
揭阳市博佳专利代理事务所 |
代理人 |
黄少松;黄镜芝 |
主权项 |
1、一种山药定向槽浅生栽培方法,包含:A)、按垄体包沟行距为L1=0.9~1.7m开挖斜面宽度为L2=0.5~1.1m,斜面坡度为α=12~40度,斜面的底部距地面高度为H1=13~38cm,斜面的顶部升起地面并距地面高度为H2=8~15cm;B)、在斜面上撒施常规基肥后,沿斜面按株距20~25cm开挖与定向槽匹配的小沟,该小沟顺着斜面坡向开挖,然后,在小沟内放置定向槽,并在定向槽内置入松软填料;C)、回填厚度为H3=5~15cm的耕作土,并整理成为带有边沟的垄体,该边沟的宽度和深度按常规处理;D)、在水平距定向槽上端1~3cm、竖向距定向槽上端4~10cm的上方处种下薯种;所述定向槽为槽长50~110cm、槽深1.8~4.5cm、槽弧长7~14cm、槽弧曲率半径为1.5~5cm的塑料槽,该槽的上端封闭,该槽的下端开口;或者,该槽的下端封闭,并在槽底处设置若干个小孔;所述松软填料为细砂、草木灰和木屑的混合填料,或者,为细砂、草木灰和谷糠的混合填料,其体积比为,细砂∶草木灰∶木屑或谷糠=70~80∶5∶15~25。 |
地址 |
515535广东省揭东县玉湖镇机关宿舍 |