发明名称 用通过选择性激光烧结建造的结构元件选择性透射电磁辐射的滤线栅
摘要 本公开关注于一种选择性透射电磁辐射、尤其是X射线辐射的滤线栅,其具有至少一个借助于选择性激光烧结由基本为辐射不能穿透的粉末材料建造的结构元件(2),并且它还公开了一种对选择性透射电磁辐射的滤线栅进行制造的方法,其包括借助于选择性激光烧结由基本为辐射不能穿透的粉末材料生成至少一种结构元件(2)的步骤。在已经通过选择性激光烧结建造出结构元件之后,所述滤线栅可以是通过模塑或研磨技术无法实现的高度复杂的3D结构。在所述滤线栅的一个实施例中,烧结结构配合通过金属薄板中的孔。
申请公布号 CN101484949A 申请公布日期 2009.07.15
申请号 CN200780025630.2 申请日期 2007.07.04
申请人 皇家飞利浦电子股份有限公司 发明人 R·多沙伊德;G·福格特米尔
分类号 G21K1/02(2006.01)I;B22F3/10(2006.01)I 主分类号 G21K1/02(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 代理人 王 英
主权项 1、一种选择性透射电磁辐射的滤线栅,包括至少一个借助于选择性激光烧结由基本为辐射不能穿透的粉末材料建造的结构元件(2)。
地址 荷兰艾恩德霍芬