| 发明名称 | 等离子体处理装置和方法 | ||
| 摘要 | 一种等离子体处理装置，使微波通过在矩形波导管的下面形成的多个缝隙，并在配置在处理室的上面的介电体中传播，利用在介电体表面形成的电磁场中的电场能量，使供给至处理室内的规定气体等离子体化，对基板实施等离子体处理。矩形波导管的上面部件由具有导电性的非磁性材料构成，并且，使该上面部件相对于下面升降移动。根据气体种类、压力、微波供给装置的功率输出等处理室内进行的等离子体处理的条件，通过使矩形波导管的上面部件相对于下面升降移动，管内波长发生变化。 | ||
| 申请公布号 | CN100514554C | 申请公布日期 | 2009.07.15 |
| 申请号 | CN200710089461.0 | 申请日期 | 2007.03.23 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社;国立大学法人东北大学 | 发明人 | 堀口贵弘;平山昌树;大见忠弘 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I;H01L21/31(2006.01)I;H01L21/311(2006.01)I;C23C16/511(2006.01)I;C23F4/00(2006.01)I;H05H1/46(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I;H01J37/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙 淳 |
| 主权项 | 1. 一种等离子体处理装置，使微波通过在矩形波导管的下面形成的多个缝隙，并在配置在处理室上面的介电体中传播，利用在介电体表面形成的电磁场中的电场能量，使供给至处理室内的规定气体等离子体化，对基板实施等离子体处理，其特征在于：所述矩形波导管的上面部件由具有导电性的非磁性材料构成，并且该上面部件构成为能够相对于所述矩形波导管的下面升降移动。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||