| 主权项 |
1.一种栽培介质，其包含有：一盆体；一圆盘基材件，设于该盆体底部；至少一环形基材件，设于该盆体内，并位于该圆盘基材件上，且该环形基材件与该圆盘基材件有一间距；以及其中该圆盘基材件与该环形基材件之材料为水苔，该水苔之含水量为0%。2.如申请专利范围第1项所述之栽培介质，其中该圆盘基材件与该环形基材件系采用杀菌除酸处理。3.如申请专利范围第1项所述之栽培介质，其中该圆盘基材件与该环形基材件系采用人工乾燥处理。4.如申请专利范围第1项所述之栽培介质，其中该圆盘基材件与该环形基材件系采用机器乾燥处理。5.如申请专利范围第1项所述之栽培介质，其中该圆盘基材件与该环形基材件于乾燥后系采用一压缩方式封存。6.如申请专利范围第5项所述之栽培介质，其中该圆盘基材件与该环形基材件之压缩压力为20kg/cm2至80kg/cm2。7.如申请专利范围第6项所述之栽培介质，其中该圆盘基材件与该环形基材件于压缩后之厚度为该基材之原厚度的1/3至1/7。8.如申请专利范围第1项所述之栽培介质，其中该环形基材件之上方或下方系进一步设有一第二环形基材件，该第二环形基材件与该环形基材件之间系设有一间距。9.如申请专利范围第8项所述之栽培介质，其中该第二环形基材件系位于该环形基材件之上方，该第二环形基材件之外径系大于该环形基材件。10.如申请专利范围第8项所述之栽培介质，其中该第二环形基材件系位于该环形基材件之下方，该第二环形基材件之外径系小于该环形基材件。图式简单说明：第一图系本创作之一较佳实施例之栽培介质使用之示意图；第二图系本创作之一较佳实施例之栽培介质使用之示意图；第三图系本创作之一较佳实施例之栽培介质使用之示意图；以及第四图系本创作之一较佳实施例之栽培介质保存之示意图。 |
