| 主权项 |
1.一种双折射共光程光学装置，系可供以应用一干涉仪中，用以检测奈米级以下之线位移量，其包括：一双折射晶体，可使一光源所产生的一光线投射后，可使垂直入射的该光线，在通过该双折射晶体时，分成一寻常光线及一非寻常光线；一光学平台，由一固定反射镜及一奈米位移反射镜所组构而成，该寻常光线系可通过固定反射镜，该非寻常光线则通过该奈米位移反射镜。2.如申请专利范围第1项所述的双折射共光程光学装置，其中，该寻常光线为一参考光。3.如申请专利范围第1项所述的双折射共光程光学装置，其中，该非寻常光线为一感测光。4.如申请专利范围第1项所述的双折射共光程光学装置，其中，该光源系由一雷射光源提供。5.如申请专利范围第4项所述的双折射共光程光学装置，其中，该光源与一光隔绝器相接。6.如申请专利范围第5项所述的双折射共光程光学装置，其中，该光隔绝器与一分光暨检测装置相接。7.如申请专利范围第6项所述的双折射共光程光学装置，其中，该分光暨检测装置由一第一分光镜、一四分之一波片、一第二分光镜、一第一偏极板、一第二偏极板、一第一偏极板、及一第二偏极板所组构而成。8.如申请专利范围第6项所述的双折射共光程光学装置，其中，该分光暨检测装置连结至一合成外差讯号处理装置。9.如申请专利范围第8项所述的双折射共光程光学装置，其中，该合成外差讯号处理装置连结至一显示装置。图式简单说明：第1图，为本创作的组成示意图。第2图，为本创作的实施示意图(一)。第3图，为本创作的实施示意图(二)。第4图，为干涉仪的组成单元示意图。 |
