发明名称 用于进入承载带之凹处的装置
摘要
申请公布号 TWM360848 申请公布日期 2009.07.11
申请号 TW097211781 申请日期 2008.07.02
申请人 3M新设资产公司 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY 美国 发明人 林秀霞;安东尼尔斯;谢金培
分类号 B65B69/00 (2006.01) 主分类号 B65B69/00 (2006.01)
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼;简秀如 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种用于提供进入一承载带之一凹处的装置,该承载带以一盖带覆盖,该装置包括:一主体,其包括一承载带接收部分;以及一分离器,其被耦合至该承载带接收部分,可从一第一位置移动至一第二位置,其中当该分离器在该第一位置时,一承载带可被定位于该承载带接收部分,且当该分离器在该第二位置时,其延伸进入该承载带接收部分至该承载带之一底面。2.如请求项1之装置,其中当该分离器在该第二位置时,其造成放置于该承载带之一凹处中之一组件以足够的力推压该承载带之一盖带以造成该盖带从该承载带揭开,因此提供进入至该凹处。3.如请求项1或2之装置,其中该分离器包括一销子。4.如请求项1之装置,其中该主体进一步包括:一从该主体延伸之突缘,其经配置以支撑位于该承载带接收部分中之承载带;以及一从该主体延伸之突出物,其与该突缘相对置。5.如请求项4之装置,进一步包括至少一个耦合至该突出物之固定装置,其可从一第一位置移动至一第二位置,其中当该固定装置在该第一位置中时,其远离该承载带,而当该固定装置在该第二位置中时,其接合该承载带以限制其移动。6.如请求项4之装置,其中该突出物包括至少一个通道,其延伸穿过该突出物直至该突出物之边缘,其中该突出物紧靠该突缘,且一固定销子位于该突出物内之通道中。7.如请求项1之装置,进一步包括一耦合至该分离器之致动器,其可从一第一位置移动至一第二位置,其中当该致动器在该第一位置时,该分离器远离该承载带之底面,且当该致动器在该第二位置时,该分离器延伸进入该承载带接收部分至该承载带之一底面。8.如请求项4之装置,进一步包括一辅翼,其经由一耦合装置被耦合至该主体之至少一个侧面部分,其中该耦合装置允许该辅翼移动至相对于该主体之复数个位置,包含一第一位置,其中该辅翼位于该主体前面之该突出物的旁边,因此进一步界定该承载带接收部分位于该突出物与该辅翼之间;以及一第二位置,其中该辅翼远离该主体,因此允许该承载带位于该突缘上。9.如请求项8之装置,其中该突出物具有一弯曲第一侧面,且其中该辅翼进一步包括一面对该突出物之第一侧面,其具有该突出物之该弯曲侧面之一互补外形,使得该承载带接收部分在该辅翼处于第一位置时系为弯曲的。10.如请求项4之装置,其中该突缘进一步包括一较靠近该主体之第一部分,及一较远离该主体之第二部分,其中较靠近主体之该第一部分经配置以与该承载带之一侧面部分接合,且该较远离该主体之第二部分经配置以与该承载带之一凹处接合。11.如请求项4之装置,进一步包括一耦合至该主体之平台,其在该突缘旁边,其中该平台相对于该突缘之位置可调整以容纳具有不同深度之承载带凹处。12.一种用于提供进入一承载带之一凹处的装置,该承载带以一盖带覆盖,该装置包括:一主体,其包括:一承载带接收部分;一从该主体延伸之突缘,其经配置以支撑位于该承载带接收部分中之承载带;以及一从主体延伸之突出物,其与该突缘相对置;至少一个被耦合至该突出物之固定装置,其可从一第一位置移动至一第二位置,其中当该固定装置在该第一位置中时,其远离该承载带,且当该固定装置在该第二位置中时,其接合该承载带以限制其移动;一辅翼,其经由一耦合装置被耦合至该主体之至少一个侧面部分,其中该耦合装置允许该辅翼移动至相对于该主体之复数个位置,包含一第一位置,其中该辅翼位于该主体前面之该突出物的旁边,因此进一步界定该承载带接收部分位于该突出物与该辅翼之间;以及一第二位置,其中该辅翼远离该主体,因此允许该承载带位于该突缘上;以及一分离器,其被耦合至该主体,该分离器进一步耦合至一致动器,该致动器可从一第一位置移动至一第二位置,其中当该致动器在该第一位置时,该分离器远离该承载带之底面,且当该致动器在该第二位置时,该分离器延伸进入该承载带接收部分至该承载带之一底面,造成放置于该承载带之一凹处中之一组件以足够的力推压该承载带之一盖带,以造成该盖带从该承载带揭开,因此提供至该凹处之进入口。13.如请求项1之装置,其中该主体由抗静电材料制成。图式简单说明:图1A显示一已知具有一盖带覆盖之承载带之一实例;图1B显示如美国专利申请案第60/82194号所描述之一段盖带的一俯视透视图;图2系本创作之一例示性装置之一透视图,该装置具有以一盖带覆盖之一承载带;图3系本创作之一例示性装置之一透视图,该装置具有两个处于一张开位置之辅翼;图4A系本创作之一例示性装置之一透视图,该装置具有一分离器,其藉由一致动器降低至一平台下方;图4B系本创作之一例示性装置之一透视图,该装置具有有一分离器,其藉由一致动器上升至一平台上方;图5显示因为该分离器被该致动器提升至该平台上方从而延伸至该承载带底面,故该盖带从该承载带揭开之概要图式;图6A显示在该分离器被提升至该平台上方之前,该盖带与该承载带结合在一起之图解;图6B显示当该分离器被提升至该平台上方时,该盖带从该承载带上揭开之图解;以及图7系本创作之一例示性装置之一透视图。
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