| 发明名称 |
Passivierte Metall-Bipolarplatten und ein Verfahren zu deren Herstellung |
| 摘要 |
Verfahren umfassend, dass ein Substrat vorgesehen wird; das Substrat behandelt wird, um eine passive Schicht zu bilden, wobei die passive Schicht eine Dicke von zumindest 3 nm besitzt; und eine elektrchieden wird, wobei die Beschichtung eine Dicke von etwa 0,1 nm bis etwa 50 nm besitzt. |
| 申请公布号 |
DE102008064086(A1) |
申请公布日期 |
2009.07.09 |
| 申请号 |
DE20081064086 |
申请日期 |
2008.12.19 |
| 申请人 |
GM GLOBAL TECHNOLOGY OPERATIONS INC. |
发明人 |
ELHAMID, MAHMOUD H.;DADHEECH, GAYATRI VYAS;MIKHAIL, YOUSSEF M. |
| 分类号 |
H01M8/02 |
主分类号 |
H01M8/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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