| 发明名称 | 研磨制品、CMP监测系统及方法 | ||
| 摘要 | 本公开涉及一种可用于化学-机械抛光(CMP)的研磨制品，所述制品包括具有相对的主表面的基底、覆盖所述主表面中至少一个的至少一部分的磨料、设置在所述基底附近的提供CMP信息的装置，以及设置在所述基底附近并适于将所述CMP信息传输到远程接收器的发射器。本发明还涉及具有用于传递CMP信息的装置的CMP垫调节器、CMP工艺监测系统以及调节CMP垫的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN101479075A | 申请公布日期 | 2009.07.08 |
| 申请号 | CN200780024243.7 | 申请日期 | 2007.05.24 |
| 申请人 | 3M创新有限公司 | 发明人 | 安德鲁·H·贝尔;布赖恩·D·格斯;文森特·J·拉雷亚;加里·M·帕尔姆格伦;丹尼尔·B·小彭德格拉斯 |
| 分类号 | B24B37/04(2006.01)I;B24B49/12(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I | 主分类号 | B24B37/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 梁晓广;关兆辉 |
| 主权项 | 1. 一种研磨制品，包括：基底，具有相对的主表面；磨料，覆盖所述主表面中至少一个的至少一部分；提供CMP信息的装置，布置在所述基底附近；以及发射器，布置在所述基底附近，其中所述发射器适于将所述CMP信息传输到远程接收器。 | ||
| 地址 | 美国明尼苏达州 | ||