发明名称 基板处理装置及基板处理方法
摘要 本发明防止处理液的蒸气和雾气从处理室内向处理室外泄漏。在容器(2)的内部形成处理室。容器(2)由非磁性材料构成。喷雾器(3)在处理室内,将处理液向基板(1)的表面进行喷涂。在处理室内,以设定的间隔设置有多数个旋转轴(11)。在旋转轴(11)上安装有多数个滚子(10),且在一端安装有磁石(13)。在处理室外设置有电动机,且在电动机上连结有旋转轴(21)。在旋转轴(21)上,在隔着容器(2)而与各磁石(13)对向的位置上,安装有多数个磁石(23)。当利用电动机的驱动而使磁石(23)进行旋转时,磁石(13)进行旋转,并使电动机的驱动力通过处理室的内外的空间,向旋转轴(11)上所安装的滚子(10)非接触地进行传达。
申请公布号 CN100511626C 申请公布日期 2009.07.08
申请号 CN200610002717.5 申请日期 2006.01.25
申请人 株式会社日立高科技 发明人 森口善弘;福田浩
分类号 H01L21/677(2006.01)I;B65G49/06(2006.01)I;B65G39/00(2006.01)I 主分类号 H01L21/677(2006.01)I
代理机构 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 代理人 寿 宁;张华辉
主权项 1. 一种基板处理装置,为一种包括:基板的处理室、在前述处理室内使基板移动的基板移动装置、在前述处理室内将处理液向利用前述基板移动装置而被移动的基板进行供给的处理液供给装置的基板处理装置;其特征在于:前述处理室的壁由非磁性材料构成,前述基板移动装置具有:设置在前述处理室内用于搭载基板的滚子基板搭载机构、在前述处理室外所设置的驱动源、及将前述驱动源的驱动力通过前述处理室的内外的空间,向前述滚子基板搭载机构在非接触状态下进行传达的第1磁石与第2磁石驱动力传达机构,其中前述第1磁石被安装在前述驱动源的轴上,前述第2磁石被安装在前述滚子的轴上且依据前述第1磁石的旋转而进行旋转,前述驱动源的轴与前述滚子的轴彼此垂直配置,且前述第1磁石与前述第2磁石的N极和S极倾斜45°交互排列。
地址 日本东京