Wet etching solution having high selectivity for silicon oxide,申请号KR20080028666-传众专利搜索

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发明名称	Wet etching solution having high selectivity for silicon oxide
摘要
申请公布号	KR100906502(B1)	申请公布日期	2009.07.08
申请号	KR20080028666	申请日期	2008.03.27
申请人		发明人
分类号	C09K13/08;C09K13/04	主分类号	C09K13/08
代理机构		代理人
主权项
地址

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